第114章 生物刻蚀
“好！”相较于电磁遗传，刻蚀遗传才更能勾动实验小组的心绪——这种简单的生物，凭什么能够在光照不同的情况下，完成一模一样的刻蚀？
目前人类的刻蚀技术完全体现在了芯片制造上。芯片的光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，它利用光在晶圆上印制微小的图形，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
但芯片制造所需要的工艺和环境要求都极为严苛，几乎不可能如硅锡钠生命这样，在任何恶劣肮脏复杂的环境下都能完成完美的刻蚀。
硅片要在80℃左右烘干，要涂覆底胶增强光刻胶和硅片表面的黏附性。
要涂覆一层对紫外光敏感的有机高分子化合物，又或者说光刻胶。
还在较高温度下烘培光刻胶，使溶剂从光刻胶中挥发出来，减轻应力，增强附着性，减薄薄膜，以免设备被光刻胶所污染。
再然后还要利用特定波长的光进行辐照，将掩膜板上的图形转移到光刻胶上，接着用显影液溶解掉曝光或未曝光的部分光刻胶，形成几何图形结构。
最后就是定影、坚膜、图形转移和去胶等等最后的收尾工程，整个过程可以说是无比复杂，而且复杂程度随着晶体管的栅极长度越小而呈指数级增长——否则祖国也不会被“卡脖子”卡那么久。
当然，和栅极长度动辄5纳米7纳米的高精尖芯片不同，硅锡钠生命的“芯片”还是有那么几十纳米的。
可纵然如此，也已经称得上是奇迹！
这种模式的基因组中，可以容纳的信息可以说是海量！要知道，人类DNA也就能包含3.2GB的信息而已！
压下激动的心情，实验小组纷纷各就各位。
接下来，实验小组按照邓立彬教授的要求，开始准备对硅锡钠生命刻蚀遗传的观测。
阮志宁负责调整实验器材，将硅锡钠生命放入一个透明的容器中，而欧阳妍则准备了一系列不同光照度的光源，以测试硅锡钠生命在不同光照度下的刻蚀遗传能力。
钟湘兰和卢明方则紧张地监测着实验数据，一旦发现异常，他们会立刻向邓立彬教授汇报。实验室的气氛又紧张又激动——每个人都期待着硅锡钠生命能够揭示出更多关于遗传刻蚀的秘密。
若能研究出成果，造成的轰动可想而知！
如果说可控核聚变解决了能源问题，那他们现在就在解决人类本身的问题！
仪器上的数据不断跳动，在不同光照度的实验中，硅锡钠生命都表现出了强大的刻蚀遗传能力，根据电磁波波长的不同，它们能够很快速的完成调整，避免刻蚀出现错误。
只要不是波长超过了物理极限，硅锡钠生命都可以完成刻蚀遗传。
“这是自适应调整……这种调整的机制是什么？”戴定波看着仪器，已经彻底陷入痴迷中，“不行，我一秒钟都等不下去，我想现在就搞清楚！”
钟湘兰呛了他一句：“还现在就搞清楚，省省吧！”
“别光顾着做梦，先把眼下的事情完成。”邓立彬训了戴定波一句，“我们还有一个非常重要的项目没做，你们不会没意识到吧？”
非常重要的项目？
实验小组的成员都愣了一下，还有什么项目，两份实验计划不都已经顺利完成了吗？
目前看来，硅锡钠生命有两套遗传方式，第一种是依靠自身释放电磁波秘钥完成遗传，第二种是依靠外界的电磁波刻蚀完成遗传。这两种方式相辅相成，只要满足任何一个条件，硅锡钠生命都能成功繁衍。
阮志宁轻咳一声，提醒道：“我们要在完全屏蔽内部和外界电磁波的情况下，再观察一次硅锡钠生命，看看两种遗传方式都被封死的情况下，它们是否还能完成繁衍。”
邓立彬教授赞许地点点头，说道：“没错，我们需要在完全封闭的环境下观察硅锡钠生命。确认它是否真的只有这两种遗传机制。”
屏蔽外界的电磁波很简单，扰乱硅锡钠生命自发的电磁波也很简单，不需要过多先进的设备和仪器。
实验小组立即开始准备这次实验。欧阳妍负责设计一个有大量干扰的内部和完全屏蔽外界电磁波的实验环境，而钟湘兰和卢明方则开始设计简单的实验方案。
戴定波也积极地参与到实验准备中来，他的手指飞快地在键盘上敲击着，以设置实验参数。
阮志宁则负责准备硅锡钠生命样本。他把之前的实验样本放回储存容器，重新挑选了一些健康且快要繁殖的硅锡钠生命个体，准备放入实验环境中。
邓立彬教授看着眼前的实验设备，满意地点了点头：“好，大家准备好了吗？这次实验对我们来说意义重大，我们要搞清楚硅锡钠生命到底有没有其他未知的遗传方式。”
在邓立彬教授的一声令下，实验正式开始。
欧阳妍操控着设备，将新挑选出的硅锡钠生命个体放入完全封闭的实验环境中，实验小组紧张地盯着实验进程。
高材生们就这么对着实验器材，从中午等到了接近下班时间，却没一人愿意挪开眼睛。
“快点繁衍啊！”钟湘兰焦急的催促一句。
实验室内的气氛越发紧张，钟湘兰的催促似乎并未起到任何效果……实验已经进行了很长时间。
这章没有结束^.^，请点击下一页继续阅读！